可用以表面下范围在2nm以内的最表层分析，能检测出包括氢(H)在内的所有元素及其同位素，对所有元素具有极高的检测灵敏度(ppm～ppb,因元素而异)，可检测痕量杂质，及微量掺杂对材料和器件性能的影响；能测定从表面到深至数十μm的微量元素及化合物浓度布；能观测各种元素及化合物的1D、2D、3D分布，具有很高的空间分辨率(＜100nm＝；能分析绝缘材料；能鉴定有机化合物分子，对有机材料结构分析有独特的能力，适于分析大分子、超高分子量有机化合物，并能测定分子量；能取得单分子层表面结构信息。

1 分析器：反射式

 质量分辨率：M/△M＞1100028SiH+＞16000 (＞200amu)   

  质量范围: ＞12000amu

2 LMIG：Bi源

  最大能量：30keV

  最大电流：30nA

  最小束斑直径：＜100nm(Atomic), ＜80nm(Cluster)

3 GCIB (Ar团簇离子枪)  

  能量范围：2.5～20keV

  Cluster 大小：约2500（m=100000amu）

4 O2+离子枪 (仅作溅射)

  离子能量范围：0.2～2keV

5 Cs+离子枪(和O2+离子枪共享一个离子光学系统)

  离子能量范围：0.2～2keV

6 带电中和低能电子枪

  能量：1-20eV可调 

7 样品台：5维加热/冷却

  控温范围及精度：-150℃～600℃；±1℃

8 EDR技术：动态范围增2个量级

9 本底真空：＜5×10-10mba

1.不含（吸附）液态 ；不易挥发

2.样品避免污染（避免手、取样工具等接触测试面）

3.尺寸长宽 5~10mm,厚度小于5mm

4.样品无需导电

温馨提示：不同型号的设备对样品有不同的要求，样品测试申请者务必看清设备对样品的要求。