可用以表面下范围在2nm以内的最表层分析，能检测出包括氢(H)在内的所有元素及其同位素，对所有元素具有极高的检测灵敏度(ppm～ppb,因元素而异)，可检测痕量杂质，及微量掺杂对材料和器件性能的影响；能测定从表面到深至数十μm的微量元素及化合物浓度布；能观测各种元素及化合物的1D、2D、3D分布，具有很高的空间分辨率(＜100nm＝；能分析绝缘材料；能鉴定有机化合物分子，对有机材料结构分析有独特的能力，适于分析大分子、超高分子量有机化合物，并能测定分子量；能取得单分子层表面结构信息。
1 分析器：反射式
质量分辨率：M/△M＞1100028SiH+＞16000 (＞200amu)
质量范围: ＞12000amu
2 LMIG：Bi源
最大能量：30keV
最大电流：30nA
最小束斑直径：＜100nm(Atomic), ＜80nm(Cluster)
3 GCIB (Ar团簇离子枪)
能量范围：2.5～20keV
Cluster 大小：约2500（m=100000amu）
4 O2+离子枪 (仅作溅射)
离子能量范围：0.2～2keV
5 Cs+离子枪(和O2+离子枪共享一个离子光学系统)
离子能量范围：0.2～2keV
6 带电中和低能电子枪
能量：1-20eV可调
7 样品台：5维加热/冷却
控温范围及精度：-150℃～600℃；±1℃
8 EDR技术：动态范围增2个量级
9 本底真空：＜5×10-10mba
